Una fotografía de la aguafuerte en una oblea de silicio (7 / 9 paso)

Paso 7: Grabar la oblea

Para grabar la imagen transferida en la oblea requiere un proceso que se mantienen características de la imagen sin distorsionarlos. Mayoría de los procesos de la aguafuerte sufre de subvaloración en que la oblea se graba isotropically en todas las direcciones (recto hacia abajo y hacia los lados), lo que resulta en distorsión del patrón transferido. Por suerte, el CNF tiene un desbastador reactiva profunda del ion (DRIE) que graba anisótropa hacia abajo en el silicio por varias veces depositando un material protector de teflón-como en las paredes laterales de la función y luego bombardear la parte inferior de las características con los iones energéticos para comer lentamente hacia abajo en el silicio. Tuve que repetir este proceso cíclico de pasivado y decapado 500 veces para grabar 200 micras (las dos quintas partes de un milímetro) en la oblea de silicio. Esto tomó varias horas, que requiere que utilice la máquina en medio de la noche cuando nadie más estaba alrededor.